Chemical Vapour Deposition - 9780854044658

Keemiline aurustamine-sadestamine (CVD) hõlmab õhukeste tahkete kilede sadestumist keemilistest lähteainetest aurufaasis ja hõlmab mitmesuguseid sadestamise tehnikaid, sealhulgas mitmesuguseid termilisi protsesse, plasma võimendatud CVD (PECVD), footon-initsieeritud CVD ja aatom. kihtsadestamine (ALD). CVD tehnoloogia areng võlgneb suurel määral koostööle erinevate teadusharude, nagu keemia, füüsika, materjaliteadus, inseneriteadus ja mikroelektroonika, vahel ning selle raamatu avaldamine edendab ja stimuleerib jätkuvat dialoogi nende erinevate uurimisvaldkondade teadlaste vahel. Raamat on üks põhjalikumaid ülevaateid keemilise aurustamise-sadestamise protsesside põhiaspektide kohta, mis on kunagi kirjutatud ning see on põhjalikum, tehniliselt üksikasjalikum ja ajakohasem kui teised CVD-alased raamatud. Kaasautorid on kõik praktiseerivad CVD tehnoloogid ja juhtivad rahvusvahelised eksperdid CVD valdkonnas. See annab loogilise ja järkjärgulise ülevaate CVD protsesside erinevatest aspektidest. Põhimõisteid, nagu erinevat tüüpi CVD-protsessid, CVD-reaktorite disain, reaktsioonide modelleerimine ja CVD prekursorite keemia, käsitletakse esimestes peatükkides. Järgneb üksikasjalik kirjeldus mitmesuguste CVD-tehnikate kasutamise kohta mitmesuguste materjalide, sealhulgas pooljuhtide, metallide, metallioksiidide ja nitriidide, kaitsekatete ja funktsionaalsete klaaside katmiseks. Lõpetuseks ja ainulaadselt, tehnilise mahu puhul käsitletakse ka CVD tööstuslikke ja kaubanduslikke aspekte koos võimalike tulevikutrendidega, mis on raamatu ebatavaline, kuid väga oluline aspekt. Raamat on kirjutatud CVD praktikuid silmas pidades, nagu keemik, kes soovib rohkem teada saada CVD protsesside kohta, või CVD tehnoloog, kes soovib saada rohkem teadmisi lähteainete keemiast. Köide osutub eriti kasulikuks neile, kes on hiljuti valdkonnaga liitunud, samuti annab see väärtusliku panuse keemia ja materjaliteaduse loengukursustesse bakalaureuse- ja magistriõppe tasemel.