Chemical Vapour Deposition - 9780854044658

Cheminis nusodinimas iš garų (CVD) apima plonų kietų plėvelių nusodinimą iš cheminių pirmtakų garų fazėje ir apima įvairius nusodinimo būdus, įskaitant įvairius terminius procesus, plazmos pagerintą CVD (PECVD), fotonų inicijuotą CVD ir atominį. sluoksnio nusodinimas (ALD). CVD technologijos plėtra labai priklauso nuo bendradarbiavimo tarp skirtingų mokslo disciplinų, tokių kaip chemija, fizika, medžiagų mokslas, inžinerija ir mikroelektronika, o šios knygos išleidimas skatins ir skatins nuolatinį dialogą tarp šių skirtingų mokslinių tyrimų sričių mokslininkų. Ši knyga yra viena iš išsamiausių kada nors parašytų apžvalgų apie pagrindinius cheminio garų nusodinimo procesų aspektus ir yra išsamesnė, techniškai išsamesnė ir naujesnė nei kitos knygos apie CVD. Visi autoriai yra praktikuojantys CVD technologai ir pirmaujantys tarptautiniai ŠKL srities ekspertai. Jame pateikiama logiška ir progresyvi įvairių CVD procesų aspektų apžvalga. Pagrindinės sąvokos, tokios kaip įvairūs CVD procesų tipai, CVD reaktorių projektavimas, reakcijos modeliavimas ir CVD pirmtakų chemija, aptariamos pirmuosiuose skyriuose. Toliau pateikiamas išsamus įvairių CVD metodų, skirtų įvairioms medžiagoms, įskaitant puslaidininkius, metalus, metalų oksidus ir nitridus, apsaugines dangas ir funkcines stiklo dangas, dengimui aprašymas. Galiausiai ir unikaliai, kalbant apie techninę apimtį, taip pat aptariami pramoniniai ir komerciniai CVD aspektai kartu su galimomis ateities tendencijomis, o tai yra neįprastas, bet labai svarbus knygos aspektas. Knyga parašyta turint omenyje ŠKL praktikus, tokius kaip chemikas, norintis daugiau sužinoti apie ŠKL procesus, arba CVD technologas, norintis įgyti daugiau žinių apie pirmtakų chemiją. Tomas bus ypač naudingas tiems, kurie neseniai įstojo į šią sritį, taip pat bus vertingas indėlis į chemijos ir medžiagų mokslo paskaitų kursus bakalauro ir magistrantūros lygmenimis.