Ion Implantation: Basics to Device Fabrication - 9781461359524

Implantacja jonowa stanowi jeden z najlepszych przykładów tematu, który począwszy od podstawowego poziomu badawczego osiągnął wysoki poziom technologiczny w ramach mikroelektroniki. Jako główna lub unikalna procedura selektywnego domieszkowania materiałów półprzewodnikowych do wytwarzania urządzeń, implantacja jonów wykorzystuje ogromny rozwój mikroelektroniki i ewoluuje w ramach multidyscyplinarnych. Fizycy, chemicy, materiałoznawcy, przetwórcy, producenci urządzeń, projektowanie urządzeń i inżynierowie zajmujący się wiązkami jonowymi są zaangażowani w tę tematykę. Niniejsza monografia zajmuje się kilkoma aspektami implantacji jonów. Rozdział pierwszy zawiera podstawowe informacje na temat fizyki urządzeń wraz z krótkim opisem głównych trendów w tej dziedzinie. Rozdział drugi poświęcony jest implantatorom jonów, obejmującym także aparaturę wysokoenergetyczną oraz opis ładowania płytek i zanieczyszczeń. Wydajność jest dość istotną kwestią w środowisku przemysłowym i musi być również omawiana w środowisku akademickim. Spowolnienie jonów jest omówione w rozdziale trzecim zarówno metodami analitycznymi, jak i metodami symulacji numerycznej. Implanty kanałowe opisano szczegółowo ze względu na ich znaczenie w przypadku implantów zerowego stopnia i dostępnych przemysłowych systemów belek równoległych. Uszkodzenie i jego wyżarzanie to kluczowe procesy w implantacji jonów. Rozdział czwarty i piąty poświęcone są temu niezwykle ważnemu tematowi.