Ion Implantation: Basics to Device Fabrication - 9781461359524

Jonu implantācija piedāvā vienu no labākajiem piemēriem tēmai, kas, sākot no fundamentālā pētījuma līmeņa, ir sasniegusi augsto tehnoloģiju līmeni mikroelektronikas ietvaros. Tā kā jonu implantācija ir galvenā vai unikālā procedūra pusvadītāju materiālu selektīvai pievienošanai ierīču izgatavošanai, tā izmanto milzīgās mikroelektronikas attīstības priekšrocības, un tā attīstās daudznozaru ietvaros. Šajā priekšmetā ir iesaistīti fiziķi, ķīmiķi, materiālu zinātnieki, apstrāde, ierīču ražošana, ierīču projektēšana un jonu staru inženieri. Šī monogrāfija aplūko vairākus jonu implantācijas aspektus. Pirmajā nodaļā ir sniegta pamatinformācija par ierīču fiziku, kā arī īss apraksts par galvenajām tendencēm šajā jomā. Otrā nodaļa ir veltīta jonu iestrādes iekārtām, ietverot arī augstas enerģijas aparātus un vafeļu uzlādes un piesārņotāju aprakstu. Ienesīgums ir diezgan aktuāls industriālajā vidē, un tas ir jāapspriež arī akadēmiskajā vidē. Trešajā nodaļā jonu palēnināšanās aplūkota gan analītiski, gan ar skaitliskās simulācijas metodēm. Kanalizācijas implanti ir detalizēti aprakstīti, ņemot vērā to atbilstību nulles pakāpes implantiem un pieejamām rūpnieciskajām paralēlo staru sistēmām. Bojājumi un to atkausēšana ir galvenie jonu implantācijas procesi. Ceturtā un piektā nodaļa ir veltīta šim ārkārtīgi svarīgajam tematam.