Ion Implantation: Basics to Device Fabrication - 9781461359524

Ioonimplantatsioon on üks parimaid näiteid teemast, mis alustades alusuuringute tasemest on jõudnud mikroelektroonika raames kõrgtehnoloogia tasemele. Peamise või ainulaadse protseduurina pooljuhtmaterjalide valikuliseks dopimiseks seadmete valmistamisel kasutab ioonide implanteerimine ära mikroelektroonika tohutut arengut ja see areneb multidistsiplinaarses raamistikus. Selle teemaga on seotud füüsikud, keemikud, materjaliteadlased, töötlemine, seadmete tootmine, seadme projekteerimine ja ioonkiirte insenerid. Käesolev monograafia käsitleb ioonide implanteerimise mitmeid aspekte. Esimene peatükk hõlmab põhiteavet seadmete füüsika kohta koos valdkonna peamiste suundumuste lühikirjeldusega. Teine peatükk on pühendatud ioonimanduritele, sealhulgas suure energiatarbega seadmetele ning vahvli laadimise ja saasteainete kirjeldusele. Tootlus on tööstuskeskkonnas üsna asjakohane kohtuvaidlus ja seda tuleb arutada ka akadeemilises keskkonnas. Ioonide aeglustumist käsitletakse kolmandas peatükis nii analüütiliselt kui ka arvsimulatsiooni meetoditega. Kanalitavaid implantaate kirjeldatakse üksikasjalikult, pidades silmas nende asjakohasust nullkraadise implantaadi ja saadaolevate tööstuslike paralleelkiirte süsteemide puhul. Kahjustused ja selle lõõmutamine on ioonide implanteerimise võtmeprotsessid. Neljas ja viies peatükk on pühendatud sellele äärmiselt olulisele teemale.